硅液相外延生长的晶向自动偏离现象
THE AUTOMATIC DEFLECTION OF CRYSTAL ORIENTATION IN Si LIQUID PHASE EPITAXY作者机构：上海航天技术研究院809所 浙江大学硅材料科学国家重点实验室
出 版 物：《上海航天》 (Aerospace Shanghai)
年 卷 期：1999年第16卷第1期
页 面：27-29页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：通过对液相外延的薄膜Ｘ衍射测试，结果显示不论衬底是否偏离［１１１］晶向，外延层在同一衍射位置都出现了双峰。经比较分析，确认了硅（１１１）面在液相外延生长时存在晶向自动偏转现象。
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