SiO_2/TiO_2变折射率光学薄膜制造技术研究
Research the Deposition of SiO_2/TiO_2 Nonlinear Refractive-index Optical Thin Films作者机构：西安工业大学西安710032 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710032
出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)
年 卷 期：2011年第40卷第6期
页 面：58-61,77页
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：SiO2/TiO2薄膜 单源混蒸 电子束蒸发 变折射率
摘 要：探讨了单源混蒸技术制备SiO2/TiO2变折射率薄膜的可行性,分别蒸发SiO2和TiO2质量比为1∶1和1∶2的混料,研究分析了薄膜折射率的变化情况,并将其与双源共蒸的方法进行了比较。实验中发现,两种材料蒸发方式的差异是影响SiO2/TiO2变折射率薄膜制备的主要因素,尚未发现混料中SiO2和TiO2的质量比与SiO2/TiO2薄膜折射率的对应关联。
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