硼掺杂金刚石薄膜电极的制备及电化学行为研究

作     者：吕江维 贾文婷 魏亚青 王鑫 赵有成 华萌茁 陆勤怡 崔闻宇 Lv Jiangwei;Jia Wenting;Wei Yaqing;Wang Xin;Zhao Youcheng;Hua Mengzhuo;Lu Qinyi;Cui Wenyu

作者机构：哈尔滨商业大学药学院哈尔滨150076 

出 版 物：《化工新型材料》 (New Chemical Materials)

年 卷 期：2018年第46卷第8期

页      面：158-161页

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070205[理学-凝聚态物理] 070302[理学-分析化学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金项目(51308171) 2016年哈尔滨商业大学青年创新人才支持项目(2016QN075) 哈尔滨商业大学大学生创新创业训练计划项目(201610240038) 

主　　题：硼掺杂金刚石 循环伏安 铁氰化钾/亚铁氰化钾 电化学 氧化还原反应 

摘      要：硼掺杂金刚石薄膜(BDD)电极具有良好的电化学性能,是一种理想的电极材料。采用扫描电子显微镜、X射线衍射、拉曼光谱对制得的BDD电极的结构进行了表征。电极表面薄膜生长致密,晶体生长取向以(111)晶面为主,生长速率为2.8μm/h,晶格常数为3.5738。利用循环伏安法(CV)研究了BDD电极在铁氰化钾/亚铁氰化钾体系中氧化还原反应的可逆性和动力学特征。研究结果表明,在铁氰化钾/亚铁氰化钾的浓度为20mmol/L条件下,BDD电极的氧化还原峰电势差达到205.75mV,在溶液中电极的氧化还原反应属于准可逆反应,氧化峰电流与反应物浓度成正比,电极过程动力学是受扩散控制为主。