光学元件亚表面损伤深度的无损荧光检测方法

作     者：侯晶 王洪祥 王储 王景贺 朱本温 HOU Jing1,2, WANG Hongxiang1, WANG Chu1, WANG Jinghe1,ZHU Benwen1

作者机构：哈尔滨工业大学机电工程学院哈尔滨150001 中国工程物理研究院激光聚变研究中心四川绵阳621900 

出 版 物：《哈尔滨工业大学学报》 (Journal of Harbin Institute of Technology)

年 卷 期：2018年第50卷第7期

页      面：17-22页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国防基础科研科学挑战专题(JCKY2016212A506-0503) 国家自然科学基金(51475106) 

主　　题：光学元件 亚表面损伤 无损检测 图像处理 磁流变抛光 

摘      要：为了实现光学元件亚表面损伤的低成本、快速、准确检测,提出一种光学元件亚表面损伤深度无损荧光检测方法.在研磨和抛光加工过程中添加纳米荧光量子点溶液作为标记物,量子点受到激发光辐照后能够产生荧光现象,然后利用激光共聚焦显微镜进行逐层扫描以获取被测样品不同深度处的切片图像,当扫描深度达到某一特定值时,荧光强度开始由强变弱,通过特征点荧光强度的变化最终确定光学元件的亚表面损伤深度.自行开发了亚表面损伤深度无损检测软件,检测软件具有图像阈值处理、亮点自动识别、图像显示和曲线表征等功能,可以实现光学元件亚表面损伤深度的快速无损检测.将无损检测结果与损伤性检测结果进行了对比分析,结果表明两种检测方法相对误差在10%以内,验证了提出的无损荧光检测方法的有效性.