激光原位制备TiB/Ti-6Al-4V复合涂层中TiB管状结构的形成机制

作     者：李雪峤 金头男 杜社军 常雷 林英华 雷永平 Li Xueqiao1, Jin Tounan1, Du Shejun2, Chang Lei1, Lin Yinghua1, Lei Yongping1

作者机构：北京工业大学北京100124 西部超导材料科技股份有限公司陕西西安710018 

出 版 物：《稀有金属材料与工程》 (Rare Metal Materials and Engineering)

年 卷 期：2018年第47卷第3期

页      面：915-919页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：激光熔覆 EBSD 透射电镜 形成机制 

摘      要：利用透射电镜(TEM)、电子背散射衍射(EBSD)技术,系统观察、分析了激光原位制备TiB/Ti-6Al-4V复合涂层中TiB生长形态、分布以及晶体学取向,以探讨管状结构TiB的形成机制。结果表明:涂层中TiB的形态主要有棒状和针状2种,受控于生长时间和元素浓度2个因素。棒状TiB形核于过共晶成分区域,针状TiB形核于共晶成分和亚共晶成分区域。当TiB的直径和生长速度之积超过临界值时,(010)_(B27)和(001)_(Bf)晶面的生长将不再稳定。界面边缘区域更易获得硼原子,生长速度快于中心区域,而边缘区域对硼元素的消耗进一步抑制了中心区域的生长,从而产生了管状结构。随着TiB直径的增加,管状结构出现的概率增加。