UC表层的X射线光电子能谱研究

作     者：伏晓国 钟永强 汪小琳 刘柯钊 赖新春 赵正平 Fu Xiaoguo;Zhong Yongqiang;Wang Xiaolin;Liu Kezhao;Lai Xinchun;Zhao Zhengping

作者机构：中国工程物理研究院四川绵阳621900 

出 版 物：《稀有金属材料与工程》 (Rare Metal Materials and Engineering)

年 卷 期：2005年第34卷第3期

页      面：359-362页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 081704[工学-应用化学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 0806[工学-冶金工程] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 070301[理学-无机化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：中国工程物理研究院基金资助项目(20020543) 

主　　题：UC 表层 XPS 

摘      要：采用X 射线光电子能谱(XPS)分析研究了烧结UC(包括钚的碳化物)样品的表面层结构。分析结果表明,经大气氧化的UC 表层由表及里大致组成为:少量UO2+ →UO2与UC 的混合物及少量自由碳→UC 基体。UC 的U4f7/2 x峰和C1s 峰结合能分别为378.2 eV 和282 eV。定量分析表明,UC 清洁表面的C/U 原子比约为1?1,这与UC 的化学组成一致,但此时仍能探测到少量固溶氧存在。初步探讨了UC 在大气环境中的氧化机理。