软X射线光发射电子显微镜光束线聚焦用KB镜系统
KB mirror system of X-ray photo-emission electron microscope beamline作者机构:中国科学院上海应用物理研究所上海201800 中国科学院大学北京100049 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室吉林长春130033
出 版 物:《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)
年 卷 期:2017年第25卷第11期
页 面:2810-2816页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 0803[工学-光学工程]
基 金:国家自然科学基金资助项目(No.61404139) 应用光学国家重点实验室自主基金资助项目(No.Y5743FQ158) 吉林省重点科技成果转化项目(No.20150307039GX)
主 题:同步辐射 光发射电子显微镜(PEEM) X射线显微镜 KB镜 结构设计
摘 要:研制了光发射电子显微镜(PEEM)高精度微聚焦系统,以实现上海光源软X射线PEEM光束线的高质量聚焦。根据上海光源PEEM光束线的概况,给出微聚焦系统光学元件的基本参数。基于Kirkpatrick-Baez(KB镜)两镜方案,设计了PEEM线微聚焦系统。介绍了KB镜姿态调整机构的设计方案,即利用三垂直线性驱动装置和两水平线性驱动装置相结合来实现五维调节,分析了姿态调节机构的原理与工作过程,给出了微聚焦系统的整体设计方案。测试了KB镜系统的机械性能,给出水平调节机构以及第一面镜子Pitch运动的测试结果,结果显示:水平调节机构分辨率为0.6μm,重复精度为0.85μm,Pitch角度分辨率为0.4″,重复精度为0.5″,优于指标要求。其它参数的测试结果亦均优于指标要求。实验表明,微聚焦系统机械指标的实现保证了PEEM线光斑的高质量聚焦。