光敏聚酰亚胺的发展现状
Developmental situations in photosensitive polyimid
作 者：孙自淑 马家举 江棂
作者机构：安徽理工大学化工系淮南232001
出 版 物：《化工新型材料》 (New Chemical Materials)
年 卷 期：2005年第33卷第10期
页 面：17-20页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：安徽省教育厅自然科学研究重点项目(2005KJ014ZD)
主 题：PSPI 介电常数 共聚 光敏聚酰亚胺 现状 PSPI 合成方法 高分子 负性
摘 要：综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)作为高分子的最新进展,分别对负性PSPI和正性PSPI的合成方法进行了归类。
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