铁电铌酸锶钡薄膜的结构特性研究
RESEARCH ON STRUCTURE CHARACTERIZATION OF FERROELECTRIC STRONTIUM BARIUM NIOBATE THIN FILM作者机构：浙江大学现代光学仪器国家重点实验室浙江大学杭州310027 香港理工大学应用物理系及材料研究中心
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2002年第31卷第10期
页 面：1228-1232页
核心收录：
学科分类：080801[工学-电机与电器] 0808[工学-电气工程] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：浙江省自然科学基金资助项目 (资助号 :5 0 0 0 77)
摘 要：采用溶胶 凝胶法在Si( 0 0 1 )基片上制备铁电铌酸锶钡薄膜 ,使用X射线衍射、摇摆曲线、扫描电子显微镜、喇曼散射光谱等测试手段研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系 ,制备的薄膜厚度可达到 5 μm 实验发现 ,随着薄膜厚度的增加 ,SBN60和SBN75薄膜在 ( 0 0 1 )方向的优先取向性越来越好 随着膜层的增加 ,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用 ,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配 。
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