扫描电镜分析的基本原理
作者机构:上海钢铁研究所四室
出 版 物:《理化检验-物理分册》 (Physical Testing and Chemical Analysis(Part A:Physical Testing))
年 卷 期:1978年第2期
页 面:21-32页
学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
主 题:背反射电子 衬度 基本原理 SEM 图象 扫描电镜 光谱仪 分光计 光学式分析仪器 电子通道花样 入射电子 检出器 样品室 分辩率 电子产生
摘 要:前言扫描电镜[Scanning Electron Microscope]的概念于1932年由德国人Knoll提出,1938年VonArdenne便制成了一台透射分辩率为500A的仪器。但受到当时电子技术条件的限制,拍摄一张照片需要l小时以上的时间,因此,这种仪器在当时并没有多大实用价值。1957年英国剑桥的仪器采用了光电倍增管,使呈象质量大为提高,获得200~600A的分辩率。在其后,英、美、德、日和苏联等国的科学仪器工作者都对SEM的发展作出过贡献,使得1965年商品仪器的分辩率能达到250A的保证指标。现在一般大型的SEM均能达到100A的保证指标。 1969年美国芝加哥大学的Crewe用场发射方式获得了分辩率达10A的可喜成果,经过几年的努力,目前采用场发射电子枪的商品仪器已能达到30A的