三氟化氮——一种性能优良的覆铜板气体蚀刻剂
Nitrogen tri-fluoride as an excellent gaseous etchant for copper作者机构：广东成德电子科技股份有限公司广东佛山528300
出 版 物：《印制电路信息》 (Printed Circuit Information)
年 卷 期：2017年第25卷第7期
页 面：10-12,42页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
摘 要：文章对三氟化氮气体蚀刻剂的性能进行了分析和评估,得出的结论是NF_3气体蚀刻剂具有蚀刻快、蚀刻因子大、无环境污染、回收容易和成本低廉等优点。尽管还存在一些不足之处,但可以通过调整蚀刻参数加以优化,它不失为一种值得推广的覆铜板铜箔蚀刻剂。
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