脉冲激光沉积制备SnS薄膜及其光学特性的研究

作     者：李丽丽 梁齐 史成武 孔明光 李兵 Li Lili;Liang Qi;Shi Chengwu;Kong Mingguang;Li Bing

作者机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院合肥230009 合肥工业大学化学工程学院合肥230009 中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室合肥230031 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2011年第31卷第4期

页      面：386-392页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：教育部留学归国人员实验室建设项目(新型微电子学薄膜研究室) 国家自然科学基金资助项目(51072043) 

主　　题：SnS薄膜 脉冲激光沉积 表面形貌 透过率 

摘      要：利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上制备SnS薄膜,研究了SnS薄膜的晶体结构、表面形貌以及有关光学特性。所制备的SnS薄膜样品为斜方晶系多晶结构,在（111）晶面上有很强的择优取向性;衬底温度在100400℃范围内,表面形貌有所区别,随着温度升高,薄膜表面分别呈现大小晶粒共存、片状颗粒、针状颗粒和锥状颗粒的形貌特征;紫外区的SnS薄膜透过率极低,可见光范围的透过率很低,近红外区的透过率较大;样品在可见区和紫外区吸收强烈,吸收系数达105cm-1量级,直接禁带宽度为1.391.46 eV。