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MOS器件中热载流子效应有关电场的计算方法

A method for calculating the electronic fields in the hot carrier effects of MOSFET

作     者:朱建纲 张卫东 郝跃 ZHU JIANGANG ZHANG WEIDONG HAO YUE

作者机构:西安电子科技大学微电子所 

出 版 物:《西安电子科技大学学报》 (Journal of Xidian University)

年 卷 期:1998年第25卷第1期

页      面:32-35页

核心收录:

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:MOS 场效应晶体管 IC 沟道水平电场 

摘      要:采用线性近似的方法,对MOS器件中的沟道水平加速电场及栅氧化层中的垂直电场进行了研究,给出了一种较精确的简便计算方法.在该电场模型的基础上,建立了整个热载流子效应的模型框架.

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