低压磁控溅射和自溅射放电
出 版 物：《四川真空》
年 卷 期：1996年第24卷第3期
页 面：49-56页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：试验中，测量了直径为１００－１６０ｍｍ的３种磁控管在０．１帕以下压强下的工作情况，在低，中等放电功率密度≤１０ｗ／ｃｍ＾２，氩气压强降到１．１～２×１０＾－２帕的范围时仍能达到稳定的放电。在２～１００ｗ／ｃｍ＾２的靶功率密度范围内测量了自溅射的放电特性，在５７ｗ／ｃｍ＾２功率密度下铜能够发生自溅射，在使用其它５种靶材料银，铅，镉，黄铜和铝青铜时也观察到了自溅射情况。
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