动态离子束混合沉积氧化钽薄膜的微观分析

作     者：杜纪富 展长勇 黄宁康 DU Ji-fu;ZHAN Chang-yong;HUANG Ning-kang

作者机构：辐照物理和技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所成都610064 

出 版 物：《功能材料与器件学报》 (Journal of Functional Materials and Devices)

年 卷 期：2007年第13卷第6期

页      面：512-516页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：氧化钽薄膜 动态离子柬混合 XPS AES 

摘      要：用动态离子束混合技术在铁基材料表面上制备氧化钽薄膜。用Ar^+束溅射沉积薄膜的同时,分别用100 keV,2×10^(17)/cm^2的O^+离子或100 keV,8×10^(16)/cm^2的Ar^+进行辐照。对两种工艺下生成的氧化钽薄膜进行了XPS、AES及RBS分析研究,结果发现,Ar^+辐照下制备的氧化物薄膜主要由符合化学剂量比的Ta_2O_5化合物组成,引入的碳污染少。O^+辐照下制备的薄膜生成了低价的氧化钽,引入了大量的碳污染。