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核磁共振成像技术的新进展(下)

作     者:邬学文 

作者机构:华东师范大学分析测试中心 

出 版 物:《物理》 (PHYSICS)

年 卷 期:1995年第24卷第12期

页      面:724-729页

学科分类:07[理学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 081102[工学-检测技术与自动化装置] 0811[工学-控制科学与工程] 0702[理学-物理学] 

主  题:NMR 核磁共振 成像 化学移位 磁化率 

摘      要:核磁共振成像技术的新进展(下)邬学文(华东师范大学分析测试中心,上海200062)4化学移位成像 ̄[13,14]在凝聚态物质中,核自旋受到核外的电子所产生的局部磁场的作用,在不同的化学环境中,其共振频率略有不同,某种物质的共振频率Fk等于式中称为屏蔽...

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