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用能化电子效应考察二次离子的发射机理

THE MECHANISM OF THE SECONDARY ION EMISSION INVESTIGATED BY THE EFFECT OF ENERGETIC ELECTRONS

作     者:朱昂如 吴西林 ZHU ANG-EU WU XI-LIN (Modern Physics Institute, Fudan University, Shanghai)

作者机构:复旦大学现代物理研究所 复旦大学现代物理研究所 

出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期:1984年第10期

页      面:1475-1479页

学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:表面势 电子隧道效应 产额 通常条件 离子发射 功函数 电子效应 质谱计 电子束流 能量谱 

摘      要:用能化电子改变样品的表面势,测量多种二次离子产额的能谱,发现在通常条件下,特别当存在氧增强发射时,离子的存活几率不为共振电子隧道效应所影响。动力学参量的数据表明,决定离子产额的表面势是高度局域的。并可推论电子束照射对二次离子质谱的定量分析可起有益的效用。

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