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丁二烯橡胶类负性光刻胶及其应用

作     者：连振顺 

出 版 物：《橡胶译丛》 

年 卷 期：1981年第3期

页      面：80-85页

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：负性光刻胶 CBR 涂膜厚度 丁二烯 二乙烯 烯烃 橡胶类 

摘      要：精密加工用的光刻胶.是制作半导体器件、集成电路必不可少的材料。正性光刻胶和负性光刻胶各有所长,可以根据不同目的灵活选用。目前用得最多的是以环化异戊二烯橡胶或环化天然橡胶为主要组份的橡胶类负性光刻胶。环化橡胶的制造历史悠久,早在1781年 Leohardi 就曾用硫酸与天然橡胶作用,制得一种树脂状物质,后来,他根据在橡胶烃中双键减

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