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新兴光化学气相沉积非晶硅太阳电池的发展趋势

作     者:李文范 Li Wen-fan (Changchun Institute of Applied Chemistry, Academia Sinica)

作者机构:中国科学院长春应用化学研究所 

出 版 物:《太阳能学报》 (Acta Energiae Solaris Sinica)

年 卷 期:1988年第9卷第1期

页      面:99-106页

核心收录:

学科分类:0830[工学-环境科学与工程(可授工学、理学、农学学位)] 0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 0807[工学-动力工程及工程热物理] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学] 

主  题:非晶硅太阳电池 光化学气相沉积 转换效率 反应气体 短路电流密度 微晶硅 开路电压 沉积速度 填充因子 发展趋势 

摘      要:本文综述了光化学气相沉积(Photo-CVD)法分解硅烷(SiH4,Si2H6)制备非晶硅(a-Si)膜的原理、膜的性质和a-Si太阳电池的光伏特性,报道了a-Si太阳电池的制备技术和发展现状,并对其前景进行了评述。

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