激光辅助的干法腐蚀技术
出 版 物：《微电子学》 (Microelectronics)
年 卷 期：1985年第3期
页 面：49-56页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：激光波长 HBr 腐蚀速率 刻蚀 衬底 蚀刻 水蚀 基片 复合物 激光器 光激射器 电子器件 半导体表面
摘 要：业已开发了许多适用于干法腐蚀的新型激光—化学技术。这些技术通常是利用气相反应剂以光或热激励的化学性质为基础而建立的。已有几种方法用于材料腐蚀,这些腐蚀包括大面积的掩蔽刻蚀,直接描绘及投影(无掩膜)刻蚀。激光辅助腐蚀的引人注目的特点是腐蚀速率快,一步加工,无电荷环境及极好的微观结构。本文将评述激光腐蚀的现状及今后的发展趋势。
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