低温反应射频溅射生长AIN膜
A1N Films Grown by Low Temperature Reaction and Radio Frequency Sputtering出 版 物：《华中工学院学报》
年 卷 期：1983年第1期
页 面：15-22页
学科分类：07[理学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0702[理学-物理学]
主 题：射频溅射 磁场 电磁场 多晶膜 织构 择优取向 AIN 低温反应 溅射室
摘 要：本文报导了用不加正交磁场的低温反应射频溅射生长C轴择优取向AIN多晶膜的方法,用该法在多种基片(特别是在镀铝玻璃片)上制得了择优取向的AIN多晶膜.文中还报导了用XRD与电镜测试AIN多晶膜的结果.初步分析了取向度和粒度大小与工艺条件的关系.
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