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脱膜剂对石英砂表面活性滤膜脱膜效果比较

Comparisons of the film peeling from the quartz sands filter using film peeling solvents

作     者:郭英明 黄廷林 文刚 曹昕 丛菁 GUO Yingming;HUANG Tinglin;WEN Gang;CAO Xin;CONG Jing

作者机构:西安建筑科技大学环境与市政工程学院西安710055 

出 版 物:《哈尔滨工业大学学报》 (Journal of Harbin Institute of Technology)

年 卷 期:2016年第48卷第8期

页      面:91-95页

核心收录:

学科分类:08[工学] 0815[工学-水利工程] 

基  金:国家自然科学基金(51278409 51308438) 陕西省自然科学基础研究计划项目(2014JZ015) 中建股份科技研发课题(CSCEC-2014-Z-32) 

主  题:脱膜 反冲洗周期 中试 HCl 

摘      要:为解决水厂滤池反冲洗周期逐渐缩短的问题,利用HCl、Na_2SO_3与H_2O_(23)种脱膜剂,对表面滤膜过度增长的石英砂活性滤料进行静态脱膜实验,确定最适脱膜剂投量与脱膜时间,应用于中试动态过滤系统中.利用扫描电子显微镜(SEM)与X射线荧光光谱分析(XRF)对脱膜前后滤料进行微观表征.结果表明:静态实验确定HCl的最适投量为14.6 mg/g,Na_2SO_3与H_2O_2的最适投量均为11.7 mg/g,3种脱膜剂最适脱膜时间均为40 min;中试系统经脱膜剂处理后,滤层空隙率与反冲洗周期均明显提高,HCl脱膜效果尤其突出,经HCl处理后,滤层空隙率由脱膜前的27.7%提高至39.1%,反冲洗周期由脱膜前的33.7 h提高至61.6 h;同时,滤柱内石英砂滤料催化氧化活性并未受到影响,出水水质仍稳定达标.SEM及XRF表征结果表明,滤料表面的滤膜被部分剥离,滤膜表面形貌与元素组成均无明显变化.综合考虑反冲洗周期恢复效果与经济因素,HCl为最优的脱膜剂选择.

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