Si/Si_(1-x)Ge_x应变层超晶格折叠声子能隙的精细测量
High Resolution Measurement of Phonon Energy Gaps in St/Si_(1-x)Ge_x Strained Layer Superlattices.作者机构:中国科学院物理研究所
出 版 物:《Journal of Semiconductors》 (半导体学报(英文版))
年 卷 期:1994年第15卷第6期
页 面:373-382页
核心收录:
学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
主 题:应变层超晶格 声子 Si/Si1-xGex
摘 要:采用高分辨喇曼光谱仪测量了Si/Si_(1-x)Ge_x应变层超晶格中折叠纵向声学支(FLA)声子的非弹性散射谱.通过改变激光波长得到了拆叠布里渊区边界附近FLA声子的色散曲线,并第一次获得了四级FLA声子带隙.将RRytov理论和精确测量结果进行了比较,讨论了Rytov理论的应用范围及限制,发现在拆叠布里渊区边界上Kytov理论与实验有明显分歧.高分辨喇曼谱还揭示出FLA声子峰的精细结构和系列卫星线,讨论了产生这些精细结构的机制以及用于材料标识的可能性.