水溶性负性光致抗蚀剂的研制
Preparation of Water-Soluble Negative Photoresist作者机构:西安交通大学理学院应用化学系陕西西安710049
出 版 物:《影像科学与光化学》 (Imaging Science and Photochemistry)
年 卷 期:2008年第26卷第2期
页 面:116-124页
核心收录:
学科分类:0810[工学-信息与通信工程] 081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0835[工学-软件工程] 0703[理学-化学] 0812[工学-计算机科学与技术(可授工学、理学学位)]
主 题:丙烯酰胺-双丙酮丙烯酰胺共聚物 聚乙烯吡咯烷酮 水溶性负性光致抗蚀剂
摘 要:以自制丙烯酰胺-双丙酮丙烯酰胺共聚物和聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为成膜基体物质,芳香族叠氮化合物为感光剂,研制出水溶性负性光致抗蚀剂配方.通过正交试验确定了最优配方.即共聚物中AM与DAAM质量比为1∶1;P(AM-DAAM)与PVP质量比为1∶2;感光剂用量为占成膜基体物质质量的1/6;偶联剂用量占成膜基体物质质量的1/60;表面活性剂G-18用量占成膜基体物质质量的1/40.在该配方下配制的光致抗蚀剂达到商品规格要求.通过与国外同类商品的比较得出自制光致抗蚀剂具有同国外商品相当的感光性能.