改进型XC502低压甲醇合成催化剂的研究 Ⅱ.催化剂的活性位

作     者：杨意泉 林仁存 戴深峻 方钦和 张藩贤 张鸿斌 Yang　Yiquan Lin　RenchunDai　Shenjun　 Fang　QinheZhang　Fanxian 　Zhang　Hongbin(State　Key　Laboratory　for　Physical　Chemistry　of　Solid　Surface,　Department　of　Chemistry,　Xiamen　University,　Xiamen　361005)

作者机构：厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室 

出 版 物：《天然气化工—C1化学与化工》 (Natural Gas Chemical Industry)

年 卷 期：1998年第23卷第3期

页      面：16-19页

学科分类：081702[工学-化学工艺] 081705[工学-工业催化] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主　　题：甲醇 合成 低压 铜基 催化剂 改进 

摘      要：采用ＸＰＳ－Ａｕｇｅｒ、ＸＲＤ和ＦＴＩＲ等方法，对５组分Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ－Ｍ１－Ｍ２改进ＸＣ５０２铜基低压甲醇合成催化剂进行了表征。ＸＰＳ－Ａｕｇｅｒ结果表明，ＸＣ５０２催化剂出现主峰为３３６．４ｅＶ（Ｃｕ＋），而Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂主峰为３３４．９ｅＶ（Ｃｕ０）；ＸＲＤ结果表明，两种工作态催化剂比氧化态新增峰的２θ分别为３６．５°（Ｃｕ＋）和４３．３°（Ｃｕ０），ＸＣ５０２催化剂这两峰的强度比Ｉ３６．５／Ｉ４３．３是Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂的２．１倍，说明工作态ＸＣ５０２催化剂单位Ｃｕ０中的Ｃｕ＋含量比Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ催化剂多；ＦＴＩＲ谱显示，ＸＣ５０２和Ｃｕ－Ｚｎ－Ａｌ两种工作态催化剂新增波数分别为６２２ｃｍ－１和６２７ｃｍ－１的振动峰，此新增峰可能是Ｃｕ＋－Ｏ或Ｃｕ＋－Ｏ－Ｚｎ２＋的振动峰。改进型铜基甲醇合成催化剂的活性位可能是Ｃｕ０－Ｃｕ＋－Ｏ－Ｚｎ２＋／Ａｌ２Ｏ３－ＭＯｘ。