常见SiC CVD系统及其尾气处理装置
Conventional Gas Scrubber Systems for SiC CVD作者机构：单片集成电路和模块国家级重点实验室江苏省南京市210016 国网智能电网研究院北京市昌平区102209
出 版 物：《智能电网》 (Smart Grid)
年 卷 期：2015年第3卷第3期
页 面：214-217页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：国家电网公司科技项目(SGRI-WD-71-14-003) 国网智能电网研究院科技项目(5255001350CT)~~
摘 要：采用化学气相沉积技术研制碳化硅外延薄膜有一个不能忽视的问题,就是如何处理外延过程中产生的尾气。介绍常用的两种不同类型的碳化硅化学气相沉积设备以及其对应的尾气处理装置;分析不同类型的碳化硅外延设备产生尾气的组分,重点描述燃烧式及水洗式尾气处理装置的工作原理。
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