咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >φ300mm/0.18μm对栅极氧化层的要求及设备 收藏

φ300mm/0.18μm对栅极氧化层的要求及设备

作     者:翁寿松 

作者机构:无锡市无线电元件四厂 

出 版 物:《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期:1999年第28卷第2期

页      面:15-17页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学] 

主  题:栅极氧化层 热处理 氧化层生长 集成电路 

摘      要:介绍了300mm/0.18μm对栅极氧化层的要求、生长极薄栅极氧化层的方法及其形成栅极氧化层的设备。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分