SiC_p/A356复合材料微弧氧化陶瓷膜的生长规律与性能

作     者：夏伶勤 韩建民 崔世海 杨智勇 李卫京 XIA Ling-qin;HAN Jian-min;CUI Shi-hai;YANG Zhi-yong;LI Wei-jing

作者机构：北京交通大学机械与电子控制工程学院北京100044 天津科技大学机械工程学院天津300222 

出 版 物：《材料工程》 (Journal of Materials Engineering)

年 卷 期：2016年第44卷第1期

页      面：40-46页

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51371022) 

主　　题：铝基复合材料 微弧氧化 陶瓷涂层 生长规律 磨损率 

摘      要：采用微弧氧化法在SiC_p/A356复合材料表面沉积获得连续致密的陶瓷膜,测定了陶瓷膜的生长曲线和显微硬度,利用SEM与XRD分析了陶瓷膜的组织形貌和相组成,考察了金属基复合材料微弧氧化膜的耐磨和防腐性能。结果表明:SiC增强体阻碍了微弧氧化膜的生长,但它并未破坏其完整性;微弧氧化处理初始阶段,陶瓷膜生长方式以向外生长为主,陶瓷膜主要由γ-Al_2O_3相组成;30min后,向外生长逐渐变慢,向内生长开始增强;处理20min之后,陶瓷膜主要由γ-Al_2O_3,α-Al_2O_3相和莫来石相构成;膜层耐磨性良好,耐腐蚀性能得到明显改善。