颞上沟MRI形态学及拐点的立体定位研究

作     者：石祖强 王震寰 季公俊 宋永瑞 SHI Zu-qiang;WANG Zhen-huan;JI Gong-jun;SONG Yong-rui

作者机构：蚌埠医学院临床应用解剖研究所人体解剖学教研室安徽蚌埠233030 蚌埠医学院组织移植安徽省重点实验室安徽蚌埠233030 蚌埠医学院第二附属医院放射科安徽蚌埠233040 北京师范大学认知神经科学与学习国家重点实验室北京100875 苏州大学附属儿童医院放射科江苏苏州215003 

出 版 物：《蚌埠医学院学报》 (Journal of Bengbu Medical College)

年 卷 期：2014年第39卷第1期

页      面：7-10页

学科分类：0710[理学-生物学] 07[理学] 071006[理学-神经生物学] 

基　　金：安徽省跨世纪学术和技术带头人后备人选科研资助项目(2002HBL26) 

主　　题：脑 颞上沟 断层影像解剖 磁共振成像 

摘      要：目的：探讨大脑颞上沟在MRI横断面及矢状面图像上的形态学规律.方法：在eFilm2.1工作站中,将获取的29名正常成人志愿者头颅连续MRI扫描数据,采用连续追踪法和3D-Cursor技术,对连续MRI横断面及矢状面图像上的颞上沟进行识别、观测,统计其形态学特征.结果：颞上沟可出现在Z=-36～48cmm区段的MRI横断层图像上（95%分布于Z=-30～42 mm层面上）,并随着层面的上移而沟后移;矢状面上颞上沟分为前部的水平段及后部的升段;在Z=-6～6 mm层面上颞上沟出现明显向后上走行的与颞上沟前部呈较大钝角的拐点,在Z=-21～12 mm的横断面上颞上沟可出现多沟表现（95%分布于Z=-18～9 mm层面上）.结论：本文结果可帮助颞上沟的快速识别和颞上沟周围重要结构的准确定位.