咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >Research Progress on Planar DC... 收藏

Research Progress on Planar DC Magnetron Sputtering Non-evaporable Getter (NEG) Films

平面直流磁控溅射NEG薄膜研究进展

作     者:Wei Ningfei Meng Jun Luo Cheng Yang Weishun Xie Wenjun Jiao Jiqiang Ma Xiangli 魏宁斐

作者机构:不详 

出 版 物:《IMP & HIRFL Annual Report》 (中国科学院近代物理研究所和兰州重离子研究装置年报(英文版))

年 卷 期:2022年第1期

页      面:298-298页

学科分类:08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:coating temperature. system 

摘      要:Based on the technology of DC magnetron sputtering,the Vacuum Technology Group at IMP have developed a large-scale multi-target magnetron sputtering coating *** shown in Fig.1,it is mainly composed of four parts,i,e,the coating chamber,the evacuation system,the cooling system and the control *** coating chamber is installed with compound vacuum gauge and temperature sensor,which can accurately measure the pressure and temperature.

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分