介质靶表面的充电效应对等离子体浸没离子注入过程中鞘层特性的影响
Effects of charging at dielectric surfaces on the characteristics of the sheath for plasma immersion ion implantation作者机构：大连理工大学物理系
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2004年第53卷第8期
页 面：2666-2669页
核心收录：
学科分类：07[理学] 070204[理学-等离子体物理] 0702[理学-物理学]
主 题：等离子体浸没离子注入 脉冲鞘层 绝缘介质 充电效应 硅薄膜 注入剂量
摘 要：针对等离子体浸没离子注入技术在绝缘体表面制备硅薄膜工艺 ,采用一维脉冲鞘层模型描述介质靶表面的充电效应对鞘层厚度、注入剂量及靶表面电位等物理量的影响 .数值模拟结果表明 :随着等离子体密度的增高 ,表面的充电效应将导致鞘层厚度变薄、表面电位下降以及注入剂量增加 。
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