透明导电ZnO∶Al(ZAO)纳米薄膜的性能分析
Studies of Transparent Conductive ZnO∶Al Nanofilms作者机构：东北大学机械工程与自动化学院沈阳110004 中国科学院金属研究所沈阳110015
出 版 物：《真空科学与技术》 (Vacuum Science and Technology)
年 卷 期：2003年第23卷第1期
页 面：9-11,15页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：纳米薄膜 直流反应磁控溅射法 结构 电阻率 透射率 反射率 半导体 氧化锌 氧化铝
摘 要：用直流反应磁控溅射法制备ZAO纳米薄膜 ,对这种薄膜进行了XRD分析 ,并对其光、电性能作了详细的研究。结果表明 :ZAO薄膜的结构为标准的ZnO纤锌矿相 ,没有Al2 O3 相出现 ;其最低电阻率为 4 5× 10 -4Ω·cm、可见光透射率在 80 %以上 ,红外波段的反射率达 70 %以上 。
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