涂胶显影设备的静电防护设计
Design of electrostatic protection for adhesive development equipment作者机构：沈阳芯源微电子设备股份有限公司辽宁沈阳110168
出 版 物：《中国高新科技》 (ZHONG GUO GAO XIN KE JI)
年 卷 期：2024年第12期
页 面：37-39页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：文章以静电的危害及产生机理为引申,分析了半导体涂胶显影设备如何在设计细节、制造调试环节去实现静电释放,避免静电的影响。首先,通过静电消除器和STHC的应用阐述了涂胶显影设备的微环境控制静电的设计方案。然后,从涂胶显影设备使用的液体DIW、有机溶剂的传输方案介绍了EFLOW、防静电管的使用背景,并重点说明NTD单元的静电接地方式。最后,针对spin单元零件设计的材料选择及制造工艺做了分析。
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