腭正中旁区支持组织厚度和腭穹窿形态相关性的三维评估

作     者：周举 马俊青 ZHOU Ju;MA Junqing

作者机构：南京医科大学附属口腔医院正畸科江苏省口腔疾病研究重点实验室江苏省口腔转化医学工程研究中心江苏南京210029 江阴市中医院口腔科江苏无锡214400 

出 版 物：《口腔医学》 (Stomatology)

年 卷 期：2024年第44卷第1期

页      面：36-40页

学科分类：1003[医学-口腔医学] 100302[医学-口腔临床医学] 10[医学] 

基　　金：国家自然科学基金(82170911) 江苏省科技计划社会发展项目(BE2021724) 江苏省科教能力提升工程——江苏省研究型医院(YJXYYJSDW4),江苏省医学创新中心(CXZX202227) 

主　　题：腭正中旁区 微种植支抗 腭穹窿形态 CBCT 

摘      要：目的本研究拟通过应用锥形束计算机体层摄影术(cone beam computed tomography,CBCT),测量不同腭穹窿形态的正畸患者在腭正中旁区域腭部支持组织厚度,分析腭正中旁区种植支抗钉植入的安全区域,为临床正畸治疗提供参考。方法随机招募青少年正畸患者72例(男36例,女36例),根据腭穹窿高宽比分为高穹窿组和低穹窿组,使用CBCT图像分析法测量受试者上颌腭正中旁区各位点的支持组织厚度。结果第三腭皱襞处的黏膜厚度均高于其他位点,腭部黏膜由内向外呈逐渐增厚的趋势,高穹窿组腭部黏膜普遍厚于低穹窿组;腭部骨和总支持组织厚度从前后方向上均呈现中间高、两侧低的特点,在第三腭皱襞后2 mm处腭部骨组织厚度最大,在第三腭皱襞前4 mm及其前方部位,从内向外骨组织厚度逐渐增高,其后的部位反之,低穹窿组骨支持组织厚度普遍高于高穹窿组;腭部总支持组织在第三腭皱襞处及其后方2 mm内腭部总组织厚度最大,从内向外总支持组织厚度逐渐增加,低穹窿组骨支持组织厚度稍高于高穹窿组。结论在低穹窿组患者腭部植入微种植支抗具有更高的稳定性;在距腭中缝旁5~9 mm、第三腭皱襞及其后方2 mm的范围内更适合高穹窿组患者植入微种植支抗。