改进缺陷,套刻和聚焦性能的第五世代浸没式曝光系统(英文)
Defects,Overlay and Focus Performance Improvements with Five Generations of Immersion Exposure Systems作者机构：ASML Netherlands B.V.De Run 65015504 DR VeldhovenThe Netherlands
出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)
年 卷 期：2008年第37卷第3期
页 面：13-19页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：浸液式扫描曝光机 套刻和聚焦性能 缺陷改进 污染粒子控制
摘 要：论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现。浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的。为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量。特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的。
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