聚甲基丙烯酸甲酯对二硫化钼拉伸应变控制及拉曼光谱研究

作     者：丘育辉 陈伟权 邓壬癸 刘一颉 何梓锋 常雨 李沭浩 Ivan S.Babichuk 杨建 Qiu Yuhui;Chen Weiquan;Deng Rengui;Liu Yijie;He Zifeng;Chang Yu;Li Shuhao;Ivan S.Babichuk;Yang Jian

作者机构：五邑大学智能制造学部江门广东529020 乌克兰国家科学院半导体物理研究所乌克兰基辅03680 

出 版 物：《机电工程技术》 (Mechanical & Electrical Engineering Technology)

年 卷 期：2023年第52卷第11期

页      面：61-64页

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：二硫化钼 化学气相沉积法 拉曼光谱 应变 PMMA 

摘      要：自石墨烯问世以来,二维过渡金属硫化物二硫化钼(MoS_(2))成为了科研人员的关注热点。MoS_(2)在其原子厚度下具有独特的光学、电学和机械性能,是制造柔性电子器件的理想材料。在机械性能方面,MoS_(2)可以承受较大的应变,比传统的半导体材料高出了许多。研究中常使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)直接作为单层MoS_(2)的柔性衬底,但由于它们之间的范德华力十分微弱,柔性衬底在拉伸和弯曲过程中,单层MoS_(2)会发生较大的滑移,对柔性衬底施加的应变不能有效地传递到二维MoS_(2)的晶格上,导致应变传递效率低下。为提高MoS_(2)应变传递效率,提出了将聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)旋涂在单层MoS_(2)上对其进行封装的方法,使PM‐MA与单层MoS_(2)形成强的相互作用力。结果表明,对PMMA进行多次应变控制时,传递到MoS_(2)的应变都相同,证实了MoS_(2)在应变过程中不会发生滑移。采用化学气相沉积法(CVD)制备MoS_(2),并用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)转移到柔性衬底上。通过对柔性衬底施加应变控制,研究单层MoS_(2)在PMMA上应变传递时的拉曼光谱,探究PMMA对MoS_(2)的应变控制,证实MoS_(2)应变传递的有效性。