混合扫描式旋转靶离子注入机剂量控制系统

作     者：曹华翔 彭立波 王迪平 罗南安 徐松 罗才旺 CAO Huaxiang;PENG Libo;WANG Diping;LUO Nanan;XU Song;LUO Caiwang

作者机构：北京烁科中科信电子装备有限公司长沙分公司湖南长沙410014 

出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期：2023年第52卷第5期

页      面：22-25,45页

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：旋转靶 剂量控制 离子注入机 静电扫描 均匀性控制 剂量积分仪 

摘      要：为了进一步提升旋转靶离子注入机的设备产能,提出了一种基于混合扫描式旋转靶离子注入机剂量控制系统;论述了该旋转靶离子注入机剂量控制系统设计思路、工作原理及控制离子束按设定的剂量精确均匀地注入到晶片表面的实现方法。介绍了该剂量控制系统硬件组成,并描述了剂量控制系统的核心部件剂量积分仪的详细硬件设计方案。基于该剂量控制系统的旋转靶离子注入机已批量交付客户使用,注入均匀性和重复性均达到1%以内。