低温热处理CoN/CN软X射线多层膜的界面互扩散研究
INTERDIFFUSION IN LOW TEMPERATURE ANNEALED CoN/CN SOFT X-RAY MULTILAYER MIRRORS作者机构:天津大学应用物理学系天津300072
出 版 物:《金属学报》 (Acta Metallurgica Sinica)
年 卷 期:1998年第34卷第4期
页 面:406-411页
核心收录:
学科分类:0806[工学-冶金工程] 08[工学] 0818[工学-地质资源与地质工程] 0815[工学-水利工程] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0813[工学-建筑学] 0802[工学-机械工程] 0703[理学-化学] 0814[工学-土木工程] 0801[工学-力学(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金!59672O24 国家教委博士点基金!D096006 北京中关村地区联合分析测试中心资助项目
摘 要:在473—523K的低温退火条件下,通过对CoN/CN软X射线多层膜一级调制峰强度增强的定量观测,研究了CoN/CN软X射线多层膜的界面互扩散行为,并测得低至10-25m2s-1的有效扩散系数通过和Co/C多层膜的结果相比较,发现N掺杂使CoN/CN软X射线多层膜的界面互扩散行为明显不同于Co/C多层膜,并具有如下特点:(1)有效扩散系数和宏观扩散系数较小;(2)扩散激活能较大;(3)临界波长相等Co—N,C—N之间存在的强化学键以及N原子的填隙,减小了结构弛豫和界面扩散这表明通过N掺杂有希望改善Co/C软X射线多层膜的结构热稳定性.