聚碳酸酯表面碳基薄膜的制备及其光学性能研究

作     者：程春玉 蔺增 王凤 巴德纯 Cheng Chunyu;Lin Zeng;Wang Feng;Ba Dechun

作者机构：机械工程与自动化学院东北大学沈阳110819 沈阳发动机设计研究所沈阳110015 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2014年第34卷第9期

页      面：890-895页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：辽宁省自然科学基金资助(201202058) 中央高校基本科研业务费专项资金资助(N110403002) 沈阳市科技基金资助(F13-295-1-00) 

主　　题：聚碳酸酯 含氢碳膜 射频等离子体增强化学气相沉积 摩擦学性能 光学性能 

摘      要：用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法在聚碳酸酯(PC)片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,用射频磁控溅射方法制备过渡层以提高膜基结合力及控制光路。本文利用激光拉曼光谱检测薄膜的微观结构,利用X射线光电子能谱分析试样中元素组成,利用扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用摩擦磨损试验机测试薄膜的摩擦学性能,利用紫外-可见光分光光度计研究试样在沉积碳膜后的光学性能。结果表明:利用RF-PECVD方法在PC片上沉积的薄膜为DLC薄膜,试样的摩擦系数与薄膜中sp3百分比有关,其光学特性与薄膜中sp2百分比有关,通过对不同过渡层的研究发现使用Si过渡层对形成高质量高透光率的DLC薄膜更加有利。