硅衬底上YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜的制备
PREPARATION OF YBa_2 Cu_3O_(7-δ) THIN FILMS ON SILICON出 版 物：《低温与超导》 (Cryogenics and Superconductivity)
年 卷 期：1991年第19卷第2期
页 面：22-26页
核心收录：
学科分类：080801[工学-电机与电器] 0808[工学-电气工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：国家自然科学基金 国家超导研究开发中心资助
摘 要：叙述了采用DC磁控溅射方法直接在Si衬底上制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)超导薄膜的过程;讨论了衬底温度、薄膜厚度和后处理工艺等因素的影响;研究了Si与YBCO膜之间互相扩散的情况。溅射时衬底温度630℃,后在480～500℃进行原位等离子体氧化,再缓慢降温至200℃。在Si(100)和Si(111)上得到的YBCO膜,其零电阻温度分别为63K和64K。
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