基于HfO_(2)插层的Ga_(2)O_(3)基金属-绝缘体-半导体结构日盲紫外光电探测器
Ga2O3-based metal-insulator-semiconductor solar-blind ultraviolet photodetector with HfO2 inserting layer作者机构:北京邮电大学理学院信息功能材料与器件实验室北京100876
出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期:2023年第72卷第9期
页 面:161-170页
核心收录:
学科分类:081702[工学-化学工艺] 080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
基 金:国家自然科学基金(批准号:12074044) 信息光子学与光通信国家重点实验室开放基金(批准号:IPOC2021ZT05)资助的课题
主 题:氧化镓 紫外探测 金属-绝缘体-半导体 表面钝化
摘 要:作为一种新兴的超宽带隙半导体, Ga_(2)O_(3)在开发高性能的日盲紫外光电探测器方面具有独特的优势.金属-半导体-金属结构因其制备方法简单、集光面积大等优点在Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器中得到了广泛的应用.本文在传统的金属-半导体-金属结构Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器的基础上,利用原子层沉积技术引入高介电性和绝缘性的氧化铪(HfO_(2))作为绝缘层和钝化层,制备出带有HfO_(2)插层的金属-绝缘体-半导体结构的Ga_(2)O_(3)日盲紫外光电探测器,显著降低了暗电流,提升了光暗电流比,同时提高了器件的比探测率和响应速度,为未来Ga_(2)O_(3)在高性能弱光探测器件制备提供了一种新通用策略.