氟哌啶的吸附溶出伏安法研究
Adsorptive Stripping Voltammetry of Droperidol作者机构:北京师范大学化学系北京100875
出 版 物:《化学学报》 (Acta Chimica Sinica)
年 卷 期:1992年第50卷第4期
页 面:378-382页
核心收录:
学科分类:1007[医学-药学(可授医学、理学学位)] 10[医学]
基 金:国家自然科学基金资助的课题
摘 要:在NH_3-NH_4Cl底液中,氟哌啶(Dro)在汞电极上有一线性扫描还原峰。E_(pc)=-1.46V(vs.饱和Ag/AgCl电极)。该峰具有明显的吸附性。当Dro浓度较小,扫描速度较快,搅拌富集时间较长时,电极反应完全为吸附态的Dro的还原所控制。吸附粒子为Dro中性分子。测得Dro在汞电极上的饱和吸附量为1.12×10^(-10)mol·cm^(-2),每个Dro分子所占电极面积为1.48nm^2,不可逆吸附的转移系数α为0.58。并建立了吸附溶出伏安法测定Dro的最佳条件,最低检测限为1.0×10^(-9)mol·dm^(-3)。