LaAlO_3单晶基片上制备Ba_(0.5)Sr_(0.5)TiO_3薄膜的透射电镜研究
Transmission electron microscopy study of the Ba0.5Sr0.5TiO3 thin films on single crystal LaAlO3作者机构：中国科学院物理研究所北京电子显微镜实验室北京100080 中国科学院物理研究所超导国家重点实验室北京100080
出 版 物：《电子显微学报》 (Journal of Chinese Electron Microscopy Society)
年 卷 期：2004年第23卷第4期
页 面：400-400页
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：铁电材料 钛酸锶钡薄膜材料 铝酸镧晶体 脉冲激光沉积法 透射电子显微镜
摘 要：铁电钛酸锶钡(Ba1-xSrx)TiO3(BSTO)薄膜材料具有很好的可调性,在微电子工业有广阔的应用前景[1,2].本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术在(001)LaAlO3单晶基片上外延生长了Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜.利用透射电子显微镜对薄膜的截面样品进行了微结构和界面行为的研究.
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