SiC基底HFCVD金刚石薄膜摩擦磨损性能
Wear properties of HFCVD diamond films on SiC substrate作者机构:现代建筑工程装备与技术国际合作联合实验室沈阳110168 沈阳建筑大学机械工程学院沈阳110168 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家研究中心沈阳110016 布拉索夫特兰西瓦尼亚大学材料科学与工程学院布拉索夫500036罗马尼亚
出 版 物:《金刚石与磨料磨具工程》 (Diamond & Abrasives Engineering)
年 卷 期:2022年第42卷第3期
页 面:283-289页
学科分类:08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 080502[工学-材料学]
基 金:国家自然科学基金(51942507) 学科创新引智项目(D18017) 沈阳市科技局(18-400-6-05) 中央军委科技委项目(20-163-00-TS-006-002-11) 福建省-中科院STS计划配套项目(2020T3001)
摘 要:利用热丝化学气相沉积技术在碳化硅基底上制备微米金刚石薄膜、纳米金刚石薄膜和金刚石–石墨复合薄膜,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜和拉曼光谱仪对不同金刚石薄膜的表面形貌和微观结构进行表征,通过摩擦磨损实验测试金刚石薄膜的摩擦系数并计算其磨损率,对比研究不同种类金刚石薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:金刚石–石墨复合薄膜具有较好的摩擦磨损性能,薄膜表面粗糙度为53.8 nm,摩擦系数为0.040,和纳米金刚石薄膜(0.037)相当;金刚石–石墨复合薄膜的磨损率最低,为2.07×10^(−7)mm^(3)·N^(−1)·m^(−1)。在相同实验条件下,同碳化硅基底的磨损率(9.89×10^(−5)mm^(3)·N^(−1)·m^(−1))和摩擦系数(0.580)相比,所有金刚石薄膜的磨损率和摩擦系数均有明显提升,说明在SiC基体表面沉积金刚石薄膜能够显著提高碳化硅材料在摩擦学领域的使役性能。