NO^＋BF4^-催化脱除TBS和THP保护基还原羟基的研究
作者机构：兰州大学功能有机分子化学国家重点实验室兰州730000
出 版 物：《科学通报》 (Chinese Science Bulletin)
年 卷 期：2010年第55卷第24期
页 面：2451-2451页
核心收录：
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070303[理学-有机化学] 0703[理学-化学]
主 题：催化脱除 保护基 羟基 TBS 还原 酸性水溶液 化学氧化法 有机合成
摘 要：有机合成中,叔丁基二甲基硅甲（TBS）醚和四氢吡喃（THP）醚常被用以保护羟基,氟离子和酸性水溶液又可以很容易地使其分解而脱保护.近年来,化学氧化法脱除这些保护基尽管有了新的进展，然而用于此目的的氧化剂却存在一些缺点，诸如：用量大、反应条件苛刻、操作复杂等．
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