我国化学气相沉积(CVD)金刚石膜研究三十年
Thirty Years of Chemical Vapor Deposition(CVD)Diamond Films Research in China作者机构：北京科技大学新材料技术研究院新金属材料国家重点实验室北京100083
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：2022年第51卷第5期
页 面：753-758页
学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
主 题：CVD金刚石 金刚石膜 科研计划 科技成果 国家重点研发计划 863计划 发展历程 三十年
摘 要：从1980年代化学气相沉积(CVD)金刚石膜问世,我国研究人员迅速跟进,在短时间内从国家层面进行布局,“863计划从1987年启动到2016年落幕。在我国科学技术需要急起直追的年代,“863计划的实施有力推动了我国CVD金刚石膜技术的进步,直至今天国家重点研发计划仍然在接力支持CVD金刚石在各个领域的应用研究。回顾CVD金刚石三十年的发展历程,对我国科技战略的设计、科技政策的制定、科研计划的落实、科技成果的实施等有重要的借鉴意义。
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