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不同椅旁可切削修复材料序列抛光时间及表面粗糙度与光泽度的比较

Surface roughness,gloss and sequential polishing times of various chairside computer aided design/manufacturing restorative materials

作     者:罗昊 田福聪 王晓燕 LUO Hao;TIAN Fu-cong;WANG Xiao-yan

作者机构:北京大学口腔医学院·口腔医院牙体牙髓科国家口腔医学中心国家口腔疾病临床医学研究中心口腔生物材料和数字诊疗装备国家工程研究中心口腔数字医学北京市重点实验室国家卫生健康委员会口腔医学计算机应用工程技术研究中心国家药品监督管理局口腔生物材料重点实验室北京100081 Department of Endodontics Dental College of Georgia at Augusta University Augusta GA30912 USA 

出 版 物:《北京大学学报(医学版)》 (Journal of Peking University:Health Sciences)

年 卷 期:2022年第54卷第3期

页      面:565-571页

核心收录:

学科分类:08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:计算机辅助设计/辅助制作 修复材料 表面粗糙度 光泽度 

摘      要:目的:比较不同种类计算机辅助设计/辅助制作(computer aided design/manufacturing,CAD/CAM)修复材料抛光后表面粗糙度值(Ra值)与光泽度值的差异,测定适宜的抛光时间,为操作者抛光椅旁可切削修复体提供参考。方法:选择5种不同种类CAD/CAM修复材料长石瓷(vita markⅡ,VM)、弹性瓷(vita enamic,VE)、优韧瓷(lava ulimate,LU)、复合树脂A(shofu block HC,SB)和复合树脂B(brilliant crios,BC),每种材料制备6个试样,共30个试样。将试样固定于自制抛光装置,使用Sof-Lex抛光碟系统中的中碟(medium disk,M碟,磨粒粒径10~40μm)、细碟(fine disk,F碟,磨粒粒径3~9μm)和超细碟(superfine disk,SF碟,磨粒粒径1~7μm)依次对试样进行序列抛光。试样每抛光10 s测量一次Ra值及光泽度值,数值不再变化时更换下一级抛光碟,每个抛光碟仅使用一次。更换下一级抛光碟的同时记录试样的Ra值、光泽度值以及抛光时间,实验完成后用SPSS 24.0软件进行统计学分析。结果:序列抛光后所有材料Ra值较抛光前显著降低(P0.05),而LU的光泽度值[(68.1±4.5)GU]与SB的光泽度值[(68.2±5.8)GU]显著高于VE[(48.1±8.1)GU]与BC[(53.2±5.8)GU],P0.05。达到最佳Ra值和光泽度值,VM[40(30,55)s]所需总抛光时间最短,VE[140(135,145)s]、LU[130(120,140)s]、SB[140(130,150)s]与BC[130(120,140)s]的抛光时间差异无统计学意义。结论:所有CAD/CAM修复材料经Sof-Lex抛光碟系统序列抛光后均能显著降低表面粗糙度值和提高光泽度值;不同材料达到最佳表面粗糙度和光泽度所需的抛光时间不同;推荐使用Sof-Lex系统抛光时,对于长石瓷,仅用M碟抛光40 s即可。对于弹性瓷、优韧瓷、复合树脂A与复合树脂B,要序列使用M碟、F碟和SF碟抛光,总体抛光时间约130~140 s。

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