低气压下XeCl准分子的形成研究
Study on the Formation of XeCl at Low Pressure作者机构：河北大学物理科学与技术学院河北保定071002
出 版 物：《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)
年 卷 期：2003年第23卷第2期
页 面：244-245页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
主 题：XeCl准分子 介质阻挡放电 荧光发射谱 准分子激光器 激光 产生 氯化氙 工作介质
摘 要：本工作利用高频介质阻挡放电对较低气压(70～1330 Pa)Xe/Cl_2混合气体中XeCl准分子的形成过程进行研究。通过探测不同Xe/Cl_2混合气压和不同Xe/Cl_2混合比条件下放电等离子体在285～315nm波长范围的荧光发射谱,得到了XeCl准分子在308nm附近的荧光发射以及荧光强度随气压变化曲线。得出该实验条件下生成XeCl准分子的最佳Xe/Cl_2混合比为4:1。
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