非晶SrTiO3纳米薄膜退火处理方法的研究

作     者：黄文 孙小峰 蒋书文 张鹰 李言荣 HUANG Wen;SUN Xiao-feng;JIANG Shu-wen;ZHANG Ying;LI yang-rong

作者机构：电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 

出 版 物：《功能材料》 (Journal of Functional Materials)

年 卷 期：2004年第35卷第Z1期

页      面：2898-2901页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：SrTiO3薄膜 退火处理 界面形态 晶化 

摘      要：用激光脉冲沉积技术(PLD),以N型(100)Si为基底在300℃下制备100nm非晶STO薄膜,分别用常规退火(CFA),快速退火(RTA)以及激光诱导晶化(LIC)处理将其转化多晶薄膜,用XRD测定薄膜相组分和结晶质量,用AFM观测薄膜表面微结构.比较不同工艺退火对薄膜结晶品质的影响并阐述了各自形核结晶的机理.