磁声发射源及其机制的研究

作     者：郭盈 徐约黄 杜凤牡 Guo Ying, Xu Yuehuang, Du Fengmu (Department of Physics, Wuhan University)

作者机构：武汉大学物理系 

出 版 物：《武汉大学学报（自然科学版）》 (Journal of Wuhan University(Natural Science Edition))

年 卷 期：1990年第36卷第4期

页      面：39-45,128,129页

核心收录：

学科分类：0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：中国科学院科学基金 

主　　题：磁声发射 磁致伸缩 磁畴 畴壁振荡 

摘      要：研究了无取向多晶、(110)[001]取向多晶与单晶三类硅钢材料的磁声发射行为,测量了三类试片的磁化曲线与磁滞回线,用粉纹法观察了磁畴结构,用X射线衍射法测量了单晶试片的取向。实验结果表明:取向为(110)[001]只含180°畴壁的单晶体,磁声发射仍相当强,即使在磁致伸缩系数几乎为零的磁场下,磁声发射信号仍相当丰富,说明180°磁畴壁运动的确是磁声发射源。对源机制进行了分析讨论。